Toner istehsalında istifadə olunan xammala adətən lopa qrafit, neft koksu və mikrokristal daş mürəkkəbi daxildir.Qrafitin təmizliyi nə qədər yüksəkdirsə, istifadə dəyəri bir o qədər yüksəkdir.Qrafit təmizləmə üsullarını fiziki və kimyəvi üsullara bölmək olar.Fiziki təmizləmə üsullarına flotasiya və yüksək temperaturda təmizləmə, kimyəvi təmizləmə üsullarına isə turşu-əsas üsulu, hidrofluorik turşu üsulu və xlorid qovurma üsulları daxildir.
Onların arasında yüksək temperaturlu təmizləmə üsulu qrafitin yüksək ərimə nöqtəsindən (3773K) və qaynama nöqtəsindən 4N5 və daha yüksək təmizliyə nail olmaq üçün istifadə edə bilər ki, bu da aşağı qaynama nöqtəsi olan çirklərin buxarlanmasını və emissiyasını nəzərdə tutur. təmizləmə [6].Yüksək təmizlik tonerinin əsas texnologiyası iz çirklərinin çıxarılmasıdır.Kimyəvi təmizləmə və yüksək temperaturun təmizlənməsi xüsusiyyətləri ilə birlikdə yüksək təmizlik toner materiallarının təmizlənməsinə nail olmaq üçün unikal seqmentli kompozit yüksək temperaturlu termokimyəvi təmizləmə prosesi qəbul edilir və məhsulun təmizliyi 6N-dən çox ola bilər.
Məhsulun performansı və xüsusiyyətləri:
1, məhsulun təmizliyi≥99,9999% (6N);
2, yüksək saflıqda karbon tozunun sabitliyi, yüksək qrafitləşmə dərəcəsi, daha az çirklər;
3, dənəvərlik və növ istifadəçilərə görə fərdiləşdirilə bilər.
Məhsulun əsas istifadəsi:
■Yüksək saflıqda SiC tozunun və digər bərk fazalı sintetik karbid materiallarının sintezi
■Brilyant yetişdirin
■Elektron məhsullar üçün yeni istilik keçirici materiallar
■Yüksək səviyyəli litium batareya katod materialı
■Qiymətli metal birləşmələri də xammaldır
-
Silisium karbidlə örtülmüş epitaksial reaktor lüləsi
-
Yüksək temperatur və korroziyaya davamlı LED Si...
-
Maye Fazalı Epitaksiya üçün Barrel Reaktoru
-
Antioksidləşməyə qarşı yüksək təmizlik SiC örtüklü MOCVD qabı
-
Yarımkeçirici Silikon əsaslı GaN epitaksisi
-
Semi-keras Barrel Reactor: Gücləndirici Yarımkeçirici...