Qallium Nitrid Substratları|GaN vafliləri

Qısa təsvir:

Qallium nitridi (GaN), silisium karbid (SiC) materialları kimi, geniş zolaq boşluğu eni, böyük zolaq boşluğu eni, yüksək istilik keçiriciliyi, yüksək elektron doyma miqrasiya dərəcəsi və yüksək dağılma elektrik sahəsi ilə fərqlənən üçüncü nəsil yarımkeçirici materiallara aiddir. xüsusiyyətləri.GaN cihazları LED enerjiyə qənaət edən işıqlandırma, lazer proyeksiya displeyi, yeni enerji vasitələri, smart şəbəkə, 5G rabitəsi kimi yüksək tezlikli, yüksək sürət və yüksək enerji tələbat sahələrində geniş tətbiq perspektivlərinə malikdir.


Məhsul təfərrüatı

Məhsul Teqləri

GaN vafliləri

Üçüncü nəsil yarımkeçirici materiallara əsasən SiC, GaN, almaz və s. daxildir, çünki onun zolaq boşluğunun eni (Məsələn) 2,3 elektron voltdan (eV) böyük və ya ona bərabərdir ki, bu da geniş diapazonlu yarımkeçirici materiallar kimi tanınır. Birinci və ikinci nəsil yarımkeçirici materiallarla müqayisədə üçüncü nəsil yarımkeçirici materiallar yüksək istilik keçiriciliyi, yüksək parçalanma elektrik sahəsi, yüksək doymuş elektron miqrasiya sürəti və yüksək bağlanma enerjisi üstünlüklərinə malikdir, bu da müasir elektron texnologiyanın yeni tələblərinə cavab verə bilər. temperatur, yüksək güc, yüksək təzyiq, yüksək tezlik və radiasiya müqaviməti və digər sərt şərtlər. O, milli müdafiə, aviasiya, aerokosmik, neft kəşfiyyatı, optik saxlama və s. sahələrdə mühüm tətbiq perspektivlərinə malikdir və genişzolaqlı rabitə, günəş enerjisi, avtomobil istehsalı kimi bir çox strateji sənaye sahələrində enerji itkisini 50%-dən çox azalda bilər. yarımkeçirici işıqlandırma və smart şəbəkə ilə təchiz edilmişdir və avadanlığın həcmini 75%-dən çox azalda bilər ki, bu da şirkət üçün mühüm əhəmiyyət kəsb edir. insan elm və texnologiyasının inkişafı.

 

Maddə 项目

GaN-FS-CU-C50

GaN-FS-CN-C50

GaN-FS-C-SI-C50

Diametri
晶圆直径

50,8 ± 1 mm

Qalınlıq厚度

350 ± 25 μm

Orientasiya
晶向

C müstəvisi (0001) M oxuna doğru bucaq 0,35 ± 0,15°

Prime Flat
主定位边

(1-100) 0 ± 0,5°, 16 ± 1 mm

İkinci dərəcəli mənzil
次定位边

(11-20) 0 ± 3°, 8 ± 1 mm

Keçiricilik
导电性

N tipli

N tipli

Yarıizolyasiya

Müqavimət (300K)
电阻率

< 0,1 Ω·sm

< 0,05 Ω·sm

> 106 Ω·sm

TTV
平整度

≤ 15 μm

BOW
弯曲度

≤ 20 μm

Ga Üz Səthi Kobudluğu
Ga面粗糙度

< 0,2 nm (cilalanmış);

və ya < 0,3 nm (epitaksiya üçün cilalanmış və səthi müalicə)

N Üz səthinin pürüzlülüyü
N面粗糙度

0,5 ~ 1,5 μm

seçim: 1~3 nm (incə torpaq); < 0,2 nm (cilalanmış)

Dislokasiya Sıxlığı
位错密度

1 x 105-dən 3 x 106 sm-2 (CL ilə hesablanır)*

Makro Qüsur Sıxlığı
缺陷密度

< 2 sm-2

İstifadəyə yararlı sahə
有效面积

> 90% (kənar və makro qüsurların istisnası)

Silikon, sapfir, SiC əsaslı GaN epitaksial təbəqənin müxtəlif quruluşu, müştəri tələblərinə uyğun olaraq düzəldilə bilər.

Semicera İş yeri Semicera iş yeri 2 Avadanlıq maşını CNN emalı, kimyəvi təmizləmə, CVD örtüyü Bizim xidmət


  • Əvvəlki:
  • Sonrakı: