Təsvir
Şirkətimiz təmin edirSiC örtüyüqrafit, keramika və digər materialların səthində CVD üsulu ilə emal xidmətləri, beləliklə, tərkibində karbon və silisium olan xüsusi qazlar yüksək temperaturda reaksiyaya girərək yüksək təmizlikdə SiC molekulları, örtülmüş materialların səthində çökən molekullar əmələ gətirir.SiC qoruyucu təbəqə.
Əsas Xüsusiyyətlər
1. Yüksək temperaturda oksidləşmə müqaviməti:
temperatur 1600 C qədər yüksək olduqda oksidləşmə müqaviməti hələ də çox yaxşıdır.
2. Yüksək təmizlik: yüksək temperaturda xlorlama şəraitində kimyəvi buxarın çökməsi ilə hazırlanmışdır.
3. Eroziya müqaviməti: yüksək sərtlik, kompakt səth, incə hissəciklər.
4. Korroziyaya davamlılıq: turşu, qələvi, duz və üzvi reagentlər.
CVD-SIC Kaplamasının Əsas Xüsusiyyətləri
| SiC-CVD Xüsusiyyətləri | ||
| Kristal strukturu | FCC β fazası | |
| Sıxlıq | q/sm³ | 3.21 |
| Sərtlik | Vickers sərtliyi | 2500 |
| Taxıl ölçüsü | μm | 2~10 |
| Kimyəvi Saflıq | % | 99.99995 |
| İstilik tutumu | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Sublimasiya temperaturu | ℃ | 2700 |
| Feleksual Gücü | MPa (RT 4 bal) | 415 |
| Gəncin Modulu | Gpa (4pt əyilmə, 1300℃) | 430 |
| Termal Genişlənmə (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| İstilik keçiriciliyi | (Vt/mK) | 300 |
Avadanlıq
