CVD TaC örtüyü

CVD TaC örtüyünə giriş:

CVD TaC Coating, substratın səthində tantal karbid (TaC) örtüyünün çökdürülməsi üçün kimyəvi buxar çökdürməsindən istifadə edən texnologiyadır. Tantal karbid əla mexaniki və kimyəvi xassələrə malik yüksək performanslı keramika materialıdır. CVD prosesi qaz reaksiyası vasitəsilə substratın səthində vahid TaC filmi yaradır.

Əsas xüsusiyyətlər:

Əla sərtlik və aşınma müqaviməti: Tantal karbid son dərəcə yüksək sərtliyə malikdir və CVD TaC Coating substratın aşınma müqavimətini əhəmiyyətli dərəcədə yaxşılaşdıra bilər. Bu, örtüyü kəsici alətlər və qəliblər kimi yüksək aşınma mühitlərində tətbiqlər üçün ideal hala gətirir.

Yüksək Temperatur Sabitliyi: TaC örtükləri kritik soba və reaktor komponentlərini 2200°C-ə qədər olan temperaturlarda qoruyur və yaxşı sabitlik nümayiş etdirir. Həddindən artıq temperatur şəraitində kimyəvi və mexaniki dayanıqlığı qoruyur, onu yüksək temperaturda emal və yüksək temperaturlu mühitlərdə tətbiqlər üçün uyğun edir.

Əla kimyəvi sabitlik: Tantal karbid əksər turşulara və qələvilərə qarşı güclü korroziyaya davamlıdır və CVD TaC Coating korroziyalı mühitlərdə substratın zədələnməsinin qarşısını effektiv şəkildə ala bilir.

Yüksək ərimə nöqtəsi: Tantal karbid yüksək ərimə nöqtəsinə (təxminən 3880°C) malikdir və bu, CVD TaC örtüyünün ərimədən və ya pisləşmədən həddindən artıq yüksək temperatur şəraitində istifadə edilməsinə imkan verir.

Əla istilik keçiriciliyi: TaC örtüyü yüksək istilik keçiriciliyinə malikdir, bu, yüksək temperatur proseslərində istiliyi effektiv şəkildə dağıtmağa və yerli həddindən artıq istiləşmənin qarşısını almağa kömək edir.

Potensial tətbiqlər:

• Qallium Nitridi (GaN) və Silikon Karbid epitaksial CVD reaktor komponentləri, o cümlədən vafli daşıyıcılar, peyk antenaları, duş başlıqları, tavanlar və qoruyucu qurğular

• Silikon karbid, qallium nitridi və alüminium nitridi (AlN) kristal inkişaf komponentləri, o cümlədən, tigelər, toxum tutucular, istiqamətləndirici halqalar və filtrlər

• Müqavimətli qızdırıcı elementlər, enjeksiyon başlıqları, maskalama halqaları və lehimləmə qurğuları daxil olmaqla sənaye komponentləri

Tətbiq xüsusiyyətləri:

• 2000°C-dən yuxarı sabit temperatur, ekstremal temperaturlarda işləməyə imkan verir
•Hidrogen (Hz), ammonyak (NH3), monosilan (SiH4) və silikona (Si) davamlıdır, sərt kimyəvi mühitlərdə qorunma təmin edir.
• Onun termal zərbəyə davamlılığı daha sürətli işləmə dövrlərinə imkan verir
• Qrafit güclü yapışma qabiliyyətinə malikdir, uzun xidmət müddətini təmin edir və heç bir örtük təbəqəsi yoxdur.
• Lazımsız çirkləri və ya çirkləndiriciləri aradan qaldırmaq üçün ultra yüksək təmizlik
• Sıx ölçülü toleranslara uyğun örtük örtüyü

Texniki spesifikasiyalar:

CVD ilə sıx tantal karbid örtüklərinin hazırlanması:

Yüksək kristallik və əla vahidliyə malik TAC örtüyü:

CVD TAC COATING Texniki Parametrlər_Semicera:

Yuxarıdakılar tipik dəyərlərdir.