Yarımkeçiricilər istehsalı sahəsindəSiC Paddlexüsusilə epitaksial böyümə prosesində həlledici rol oynayır. Əsas komponent kimi istifadə olunurMOCVD(Metal Üzvi Kimyəvi Buxar Depoziti) sistemləri,SiC Paddlesyüksək temperaturlara və kimyəvi cəhətdən sərt mühitlərə dözmək üçün hazırlanmışdır ki, bu da onları qabaqcıl istehsal üçün əvəzolunmaz edir. Semicera-da biz yüksək məhsuldarlıq istehsalında ixtisaslaşmışıqSiC Paddleshər ikisi üçün nəzərdə tutulmuşdurEpitaksiyavəSiC Epitaksiyası, müstəsna davamlılıq və istilik sabitliyi təklif edir.
SiC Paddles istifadəsi, substratın dəqiq istilik və kimyəvi şəraitə ehtiyac duyduğu epitaksial böyümə kimi proseslərdə xüsusilə yayılmışdır. Semicera məhsullarımız a tələb olunan mühitlərdə optimal performans təmin edirMOCVD Həssaslığı, burada yüksək keyfiyyətli silisium karbid təbəqələri substratlara yerləşdirilir. Bu təkmilləşdirməyə kömək edirgofretyarımkeçirici istehsalında keyfiyyətli və yüksək cihaz səmərəliliyi.
Semicera'sSiC Paddlesüçün nəzərdə tutulmayıbEpitaksiyahəm də bir sıra digər kritik tətbiqlər üçün uyğunlaşdırılmışdır. Məsələn, onlar LED vaflilərin istehsalında vacib olan PSS Etching Carriers ilə uyğun gəlir vəICP aşındırma daşıyıcıları, vaflilərin formalaşdırılması üçün dəqiq ion nəzarətinin lazım olduğu yerlərdə. Bu kürəklər kimi sistemlərin ayrılmaz hissəsidirRTP daşıyıcıları(Rapid Thermal Processing), burada sürətli temperatur keçidlərinə və yüksək istilik keçiriciliyinə ehtiyac böyükdür.
Bundan əlavə, SiC Paddles yüksək effektiv LED vaflilərin böyüməsini asanlaşdıran LED Epitaksial Qəbuledicilər kimi xidmət edir. Müxtəlif istilik və ətraf mühit streslərini idarə etmək qabiliyyəti onları müxtəlif yarımkeçirici istehsal proseslərində çox yönlü edir.
Ümumilikdə, Semicera müasir yarımkeçirici istehsalının tələblərinə cavab verən SiC Paddles təqdim etməyə sadiqdir. SiC Epitaxy-dən MOCVD Susceptors-a qədər həllərimiz sənayenin qabaqcıl tələblərinə cavab verən təkmilləşdirilmiş etibarlılıq və performans təmin edir.
Göndərmə vaxtı: 07 sentyabr 2024-cü il